例如,目前國(guó)內(nèi)撰寫(xiě)的申請(qǐng)文件在對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行論述時(shí)普遍存在清楚性及完整性不夠的缺陷。但在申請(qǐng)文件的撰寫(xiě)中,對(duì)技術(shù)方案清楚、完整的論述是最基本的要求,也是必須嚴(yán)加重視的要求之一。
專利法第二十六條第三款中明確規(guī)定,“說(shuō)明書(shū)應(yīng)當(dāng)對(duì)發(fā)明或?qū)嵱眯滦妥鞒銮宄?、完整的說(shuō)明”。
根據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則第六十四條的規(guī)定,說(shuō)明書(shū)不滿足專利法第二十六條第三款中有關(guān)說(shuō)明書(shū)的清楚、完整的規(guī)定可以作為申請(qǐng)專利無(wú)效的理由,表明如果申請(qǐng)文件中存在此類缺陷,即使當(dāng)時(shí)授權(quán)了,該缺陷也會(huì)是影響該申請(qǐng)文件未來(lái)權(quán)利穩(wěn)定性的因素之一。
另外,專利法第三十三條規(guī)定,“對(duì)發(fā)明和實(shí)用新型專利申請(qǐng)文件的修改不得超出原說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)記載的范圍”,因此,如果提交的申請(qǐng)文件在清楚性及完整性上出現(xiàn)問(wèn)題,則通常是無(wú)法彌補(bǔ)的,撰寫(xiě)人必須確保提交時(shí)的申請(qǐng)文件已對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行了清楚、完整的論述。
那么,申請(qǐng)文件撰寫(xiě)到什么程度才算是清楚、完整呢?專利法第二十六條給出了認(rèn)定的標(biāo)準(zhǔn)“以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)”。審查指南第二部分第二章也針對(duì)何為清楚、何為完整、何為能夠?qū)崿F(xiàn)進(jìn)行了具體的規(guī)定。
以半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的專利申請(qǐng)文件為例,通常滿足撰寫(xiě)的清楚、完整性要求的申請(qǐng)文件會(huì)對(duì)技術(shù)方案中涉及到的各步工藝都給出清楚、詳細(xì)的描述,包括:從功能、原理上對(duì)各步工藝的相關(guān)基本知識(shí)進(jìn)行解釋;對(duì)涉及到的各個(gè)工藝步驟,無(wú)論是否與發(fā)明點(diǎn)相關(guān),均列出詳細(xì)的參數(shù)列表;以及,對(duì)于各個(gè)工藝步驟中存在的可能的替代方案進(jìn)行適當(dāng)?shù)年U述。
這樣寫(xiě)的好處是顯而易見(jiàn)的:一則,技術(shù)方案的論述非常清楚、完整,所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員依據(jù)說(shuō)明書(shū)中的內(nèi)容,能夠在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的基礎(chǔ)上輕易實(shí)現(xiàn);二則,便于理解,減少歧義。其對(duì)技術(shù)方案的論述可以詳細(xì)到令一個(gè)對(duì)微電子專業(yè)不太了解的人(如法官)也可以從申請(qǐng)文件中找到較多的、利于其理解該技術(shù)方案的內(nèi)容,減少了對(duì)該技術(shù)方案理解的難度,這對(duì)于獲得權(quán)利及維護(hù)權(quán)利都很有好處。
然而,目前國(guó)內(nèi)撰寫(xiě)的申請(qǐng)文件中,即使是由專利代理人撰寫(xiě)的申請(qǐng)文件,由于多種原因的存在,還是經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)撰寫(xiě)不夠清楚或不夠完整的問(wèn)題,從申請(qǐng)人的角度考慮,主要有以下幾種情況存在:
(1)由于申請(qǐng)人未理解專利申請(qǐng)文件清楚、完整的重要性,怠于為專利代理人提供足夠的技術(shù)資料;
(2)申請(qǐng)人出于保密的考慮,將技術(shù)方案中的部分內(nèi)容隱瞞起來(lái),僅提供一個(gè)大致的想法,導(dǎo)致在申請(qǐng)文件中公開(kāi)的技術(shù)方案不能由所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員實(shí)現(xiàn),不滿足專利申請(qǐng)中有關(guān)清楚、完整的要求;
(3)由于申請(qǐng)人對(duì)自己使用的技術(shù)相當(dāng)?shù)厥煜?,將技術(shù)方案中涉及到的大部分信息都當(dāng)作現(xiàn)有技術(shù),認(rèn)為不需要進(jìn)行詳細(xì)介紹。
對(duì)于第一種情況,專利代理人應(yīng)該對(duì)申請(qǐng)人闡明清楚、完整對(duì)一篇專利申請(qǐng)文件的重要性,說(shuō)服發(fā)明人提供足夠的技術(shù)資料。
對(duì)于第二種情況,可以具體分析,如果隱瞞申請(qǐng)人希望保密的內(nèi)容僅會(huì)使效果不是最佳,但仍可以令申請(qǐng)文件具有專利的三性――實(shí)用性、新穎性及創(chuàng)造性,且所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員也能依據(jù)文件中的描述而實(shí)現(xiàn),那么專利代理人在撰寫(xiě)申請(qǐng)文件時(shí)可以對(duì)技術(shù)方案的該部分作保密處理。反之,如果不能滿足上述要求,則專利代理人需要說(shuō)服申請(qǐng)人公開(kāi)該部分內(nèi)容或放棄該專利申請(qǐng)。
例如,一項(xiàng)申請(qǐng)的發(fā)明點(diǎn)本身在于工藝中采用了一種新的氣體,提高了形成的材料的性能,但申請(qǐng)人卻將該新的氣體作為保密內(nèi)容不愿意透露該氣體的具體名稱。此時(shí),專利代理人可以與申請(qǐng)人進(jìn)一步交流,詢問(wèn)是該新的氣體的哪種特性在提高材料性能方面起到了主要的作用,是否能由某一類氣體實(shí)現(xiàn)。
A、如果能(雖然可能存在性能提高有限或成本較高等缺點(diǎn)),則可以在申請(qǐng)文件中僅提出該類氣體,并舉出非最佳的幾種氣體(最佳氣體可以進(jìn)行保密),這樣,既可以滿足專利的三性要求及所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)的要求,又可以按申請(qǐng)人的要求實(shí)現(xiàn)對(duì)關(guān)鍵內(nèi)容的保密。但需要告知申請(qǐng)人,如果此后競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手申請(qǐng)了對(duì)該最佳氣體的專利保護(hù),則可能會(huì)令申請(qǐng)人自己陷入被動(dòng)之中:不但不能限制對(duì)手使用該最佳氣體,還可能因?qū)Ψ剿鶕碛械膶@麢?quán)而受到限制。
B、如果該材料性能的改進(jìn)只能由一種特定的氣體實(shí)現(xiàn),則專利代理人應(yīng)該進(jìn)一步與申請(qǐng)人溝通,闡明為滿足專利的三性要求及所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)的要求,必須在申請(qǐng)文件中指出該特定氣體。若申請(qǐng)人仍堅(jiān)持不公開(kāi)該特定氣體,則最好建議申請(qǐng)人放棄對(duì)該技術(shù)方案的專利申請(qǐng),而將該技術(shù)方案按商業(yè)秘密等其它方式進(jìn)行保護(hù)。因?yàn)?,此時(shí)即使申請(qǐng)了對(duì)該技術(shù)方案的專利保護(hù),但因其申請(qǐng)文件中公開(kāi)的內(nèi)容不足以解決技術(shù)問(wèn)題(提高材料性能),或所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員不能夠依據(jù)申請(qǐng)文件中的內(nèi)容實(shí)現(xiàn),該申請(qǐng)文件仍不能滿足專利法對(duì)申請(qǐng)文件清楚、完整的要求。一方面該申請(qǐng)文件難以獲得授權(quán),另一方面即使獲得了獲權(quán),其未來(lái)的權(quán)利也不夠穩(wěn)定,易被競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手無(wú)效掉,難以真正實(shí)現(xiàn)對(duì)技術(shù)方案的保護(hù),反而可能在公開(kāi)申請(qǐng)文件后給競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手以技術(shù)啟示。
對(duì)于第三種情況,專利代理人應(yīng)該與申請(qǐng)人進(jìn)一步溝通,說(shuō)明應(yīng)站在所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員的角度對(duì)技術(shù)方案進(jìn)行闡述,一些申請(qǐng)人認(rèn)為簡(jiǎn)單的情況,其實(shí)在本領(lǐng)域中仍存在多種其它可能的實(shí)現(xiàn)方法,只是申請(qǐng)人未采用或不適用于該技術(shù)方案而已,如果不具體說(shuō)明技術(shù)方案中相關(guān)的內(nèi)容,可能會(huì)導(dǎo)致所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員無(wú)法根據(jù)申請(qǐng)文件的內(nèi)容實(shí)現(xiàn)該技術(shù)方案,從而導(dǎo)致申請(qǐng)文件具有不完整或不清楚的缺陷。
此外,還要注意到撰寫(xiě)時(shí)確保申請(qǐng)文件具有清楚、完整性并不意味著要對(duì)技術(shù)方案各個(gè)方面的各個(gè)細(xì)節(jié)都做出詳細(xì)論述,還是應(yīng)該有個(gè)度,否則可能會(huì)出現(xiàn)過(guò)猶不及的問(wèn)題。
筆者認(rèn)為,對(duì)技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)應(yīng)進(jìn)行盡可能詳細(xì)、全面的論述;對(duì)可能影響該技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)的相關(guān)內(nèi)容也要做出具體的描述;但是,對(duì)于與技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)關(guān)系不大、且可以采用多種方法中的任一種實(shí)現(xiàn)的內(nèi)容,則可以略寫(xiě)。如可以將其作為現(xiàn)有技術(shù),僅提到在技術(shù)方案中也可以適用什么方法或什么結(jié)構(gòu)即可。
例如,一個(gè)技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)在于對(duì)沉積工藝的工藝條件進(jìn)行改進(jìn),以得到更為均勻的薄膜。此時(shí),圍繞該沉積工藝要進(jìn)行盡可能詳細(xì)、全面的描述:如,說(shuō)明本技術(shù)方案中所用的沉積設(shè)備的結(jié)構(gòu)、原理等,沉積薄膜時(shí)所用的各種反應(yīng)氣體、載氣體等;列出沉積時(shí)所選用的各工藝條件(如溫度、氣壓、功率等)及原因,沉積過(guò)程中各工藝條件的改變對(duì)薄膜沉積質(zhì)量的影響等等。
其中,由于該技術(shù)方案的發(fā)明點(diǎn)在于沉積工藝條件的改進(jìn),除了對(duì)改進(jìn)了的工藝條件要進(jìn)行格外詳細(xì)的論述外,還可以進(jìn)一步分析為何要對(duì)該工藝條件進(jìn)行改進(jìn),該改進(jìn)的原理、趨勢(shì),以及該改進(jìn)可以帶來(lái)的各種好處等等,最好還要列出改進(jìn)前、后的效果對(duì)比數(shù)據(jù)。
不過(guò),對(duì)于該技術(shù)方案中在沉積時(shí)所用的襯底的相關(guān)知識(shí)的描述是否也用具體到如此程度呢?沉積中所用的襯底也是在描寫(xiě)該技術(shù)方案時(shí)必不可少地要引入的內(nèi)容,對(duì)它的描述是否也要象描述沉積工藝一樣,從結(jié)構(gòu)、原理等基本的相關(guān)知識(shí)開(kāi)始介紹?如,如何利用拉晶等方式形成襯底,其的結(jié)構(gòu)有什么特點(diǎn)(如其晶向等),它在沉積前可能已形成的內(nèi)部結(jié)構(gòu)具體是如何形成的等等。
筆者認(rèn)為如果上述問(wèn)題對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案能否實(shí)現(xiàn)關(guān)系不大,對(duì)其的介紹是不需要具體到如此程度的??梢詫⑵湟暈楣WR(shí),只提到本技術(shù)方案夠用的信息量(如本技術(shù)方案中可以適用的襯底,及襯底上可以具有的結(jié)構(gòu)等),其余的不用寫(xiě)太多。如果對(duì)于這一類的知識(shí)點(diǎn)也進(jìn)行如發(fā)明點(diǎn)般具體詳細(xì)的介紹,一方面會(huì)降低撰寫(xiě)的效率;另一方面對(duì)審查員或法官理解技術(shù)方案本身的幫助并不大,反而可能會(huì)導(dǎo)致發(fā)明點(diǎn)不突出,需要在幾十頁(yè)的文件中去尋找技術(shù)方案中真正有關(guān)創(chuàng)新的地方。
總之,在撰寫(xiě)專利申請(qǐng)文件時(shí),務(wù)必要重視所描述的技術(shù)方案的清楚性及完整性,并注意對(duì)其詳細(xì)程度的把握,只有滿足了這一點(diǎn)的專利申請(qǐng)文件才可能算是合格的申請(qǐng)文件,也只有在實(shí)現(xiàn)了這一點(diǎn)的前提下才有可能撰寫(xiě)出真正高質(zhì)量的申請(qǐng)文件。