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文/集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 葛聰慧
申請人將撰寫完成的發(fā)明的申請文件提交到國家知識產(chǎn)權(quán)局以后，在該發(fā)明授權(quán)或駁回前，申請人可以依照《專利法》以及《專利法實(shí)施細(xì)則》的規(guī)定，對該發(fā)明的申請文件進(jìn)行修改。申請人對申請文件的修改中，以對權(quán)利要求的修改為重點(diǎn)。下面結(jié)合一個實(shí)例，淺談筆者對權(quán)利要求修改的一點(diǎn)見解。
一、案例描述
申請人所提交的發(fā)明的申請文件中，獨(dú)立權(quán)利要求1請求保護(hù)技術(shù)方案A，權(quán)利要求2是權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求，權(quán)利要求2請求保護(hù)技術(shù)方案B，但是技術(shù)方案A與技術(shù)方案B是兩個相互獨(dú)立的并列的技術(shù)方案，因此，實(shí)質(zhì)上權(quán)利要求2并不能作為權(quán)利要求1的從屬權(quán)利要求。
當(dāng)發(fā)明的申請文件的權(quán)利要求出現(xiàn)上述缺陷時，一般情況下，常見的一種修改方式為，對技術(shù)方案A和技術(shù)方案B進(jìn)行上位，獲得一個能夠涵蓋技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的一個技術(shù)方案C，將技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求，將保護(hù)技術(shù)方案A的權(quán)利要求和保護(hù)技術(shù)方案B的權(quán)利要求，分別作為該新的獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求。
上述修改方式是否被允許呢？筆者在下述內(nèi)容中主要依據(jù)兩個法條進(jìn)行詳細(xì)闡述，第一，專利法第33條的規(guī)定；第二，專利法實(shí)施細(xì)則的第51條的規(guī)定。
二、依據(jù)專利法第33條的規(guī)定進(jìn)行闡述
專利法第33條規(guī)定：申請人可以對其專利申請文件進(jìn)行修改，但是，對發(fā)明和實(shí)用新型專利申請文件的修改不得超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍，對外觀設(shè)計專利申請文件的修改不得超出原圖片或者照片表示的范圍。
因此，在對發(fā)明的申請文件的權(quán)利要求進(jìn)行修改時，修改后的權(quán)利要求需要符合專利法第33條的規(guī)定，即修改后的權(quán)利要求不能超出原說明書和權(quán)利要求書所記載的范圍。
那么，怎么判斷修改后的權(quán)利要求是否符合專利法第33條的規(guī)定呢？《專利審查指南》2010版第二部分第八章5.2.1.1中明確說明：“原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍包括原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容和根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定的內(nèi)容”。也就是說，修改后的權(quán)利要求若想滿足專利法第33條的規(guī)定，則需滿足下述兩個條件中的任意一個即可：
第一個條件，修改后的權(quán)利要求在原說明書和權(quán)利要求書中有明確的文字記載；
第二個條件，修改后的權(quán)利要求在原說明書和權(quán)利要求書中雖然沒有明確的文字記載，但是，可以根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。
本文第一部分案例描述中，所采用的修改方式是，添加一個涵蓋技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的一個技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求。根據(jù)上述描述，對上述修改方式分析如下：
第一種情況，技術(shù)方案C在原說明書和權(quán)利要求書中有明確的文字記載。此時，技術(shù)方案C符合上述第一個條件，上述修改方式符合專利法第33條的規(guī)定。
第二種情況，技術(shù)方案C在原說明書和權(quán)利要求書中沒有明確的文字記載，但是，可以根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。例如：技術(shù)方案C下位的實(shí)現(xiàn)方式有且只有兩種，一種是技術(shù)方案A，一種是技術(shù)方案B，原申請文件中記載了技術(shù)方案A和技術(shù)方案B，根據(jù)技術(shù)方案A和技術(shù)方案B可以直接地、毫無疑義地確定技術(shù)方案C。此時，技術(shù)方案C符合上述第二個條件，上述修改方式符合專利法第33條的規(guī)定。
第三種情況，技術(shù)方案C在原說明書和權(quán)利要求書中沒有明確的文字記載，并且，也不能根據(jù)原說明書和權(quán)利要求書文字記載的內(nèi)容以及說明書附圖能直接地、毫無疑義地確定。也就是說，技術(shù)方案C保護(hù)了一個上位的實(shí)現(xiàn)方案，而原申請文件中僅僅記載了技術(shù)方案C的兩種下位的實(shí)現(xiàn)方案（技術(shù)方案A和技術(shù)方案B），例如，技術(shù)方案C還至少包括另一種下位的實(shí)現(xiàn)方案D。也就是說，根據(jù)原申請文件所記載的內(nèi)容，無法直接地、毫無疑義地確定一個能夠包含技術(shù)方案D的技術(shù)方案C。此時，上述修改方式不符合專利法第33條的規(guī)定。
上述第一種情況下，第一部分案例描述中所述的發(fā)明的申請人，雖然沒有在本發(fā)明的權(quán)利要求中聲稱保護(hù)技術(shù)方案C，僅在說明書中記載了技術(shù)方案C，但是，該技術(shù)方案C也是本發(fā)明的申請人付出了創(chuàng)造性的勞動所得到的，從保護(hù)本發(fā)明的申請人的利益角度考慮，為了更正原權(quán)利要求的缺陷，添加該技術(shù)方案C的修改符合專利法第33條的規(guī)定。
上述第二種情況下，由于技術(shù)方案C僅包括技術(shù)方案A和技術(shù)方案B兩種實(shí)現(xiàn)方式，本發(fā)明的申請文件中所記載的技術(shù)方案A和技術(shù)方案B，等同于記載技術(shù)方案C，即本發(fā)明的申請人得到技術(shù)方案A和技術(shù)方案B所付出的創(chuàng)造性的勞動，等同于得到技術(shù)方案C所付出的創(chuàng)造性的勞動，為了更正原權(quán)利要求的缺陷，添加該技術(shù)方案C的修改方式符合專利法第33條的規(guī)定。
但是，在上述第三種情況下，若是將技術(shù)方案C添加到本發(fā)明的權(quán)利要求中，該技術(shù)方案C中包含技術(shù)方案D，即在原申請文件中添加了新的技術(shù)方案D。而專利法第33條的立法本意是不允許增加新的內(nèi)容，上述修改顯然是不符合專利法第33條的規(guī)定的。
此外，從另一個角度考慮，若允許將技術(shù)方案C添加到本發(fā)明權(quán)利要求中，會影響在后申請人的利益。技術(shù)方案A和技術(shù)方案B，是與技術(shù)方案D并列的技術(shù)方案，本發(fā)明的申請人僅付出了得到技術(shù)方案A和技術(shù)方案B的創(chuàng)造性勞動，而沒有付出得到技術(shù)方案D的創(chuàng)造性勞動，即本發(fā)明的申請人獲得了一個沒有付出創(chuàng)造性勞動的技術(shù)方案D。若在后申請保護(hù)技術(shù)方案D，則在后申請則落入了本發(fā)明修改后的權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。此時，在后申請的申請人利益受到損失，而本發(fā)明的申請人卻獲得了一個其并未付出創(chuàng)造性勞動的技術(shù)方案D。
綜上所述，第一種情況和第二種情況下，添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求符合專利法第33條的規(guī)定，而第三種情況下，添加技術(shù)方案C作為新的權(quán)利要求不符合專利法第33條的規(guī)定，是不被允許的。
并且，還需要注意的是，在審查過程中，由于各種因素即使在第三種情況下該申請文件被授權(quán)了。在無效程序中，新的獨(dú)立權(quán)利要求也能夠以不符合專利法第33條的規(guī)定的原因而被無效。
那么是不是符合專利法第33條的規(guī)定，添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方式就是被允許的呢？下面依據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則的第51條的規(guī)定進(jìn)行詳細(xì)闡述。
三、依據(jù)專利法實(shí)施細(xì)則第51條的規(guī)定進(jìn)行闡述
專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款規(guī)定：發(fā)明專利申請人在提出實(shí)質(zhì)審查請求時以及在收到國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的發(fā)明申請進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段通知之日起的3個月內(nèi)，可以對發(fā)明專利申請主動提出修改。專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款規(guī)定：申請人在收到國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的審查意見通知書后對專利申請文件進(jìn)行修改的，應(yīng)當(dāng)針對通知書指出的缺陷進(jìn)行修改。專利法實(shí)施細(xì)則第51條規(guī)定了兩種修改的情況：第一種情況是主動修改，第二種情況是被動修改。
專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款規(guī)定的發(fā)明的申請文件的主動修改時機(jī)有兩個，一個是提出實(shí)質(zhì)審查請求時，另一個是收到國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的發(fā)明申請進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段通知之日起的3個月內(nèi)。若申請人發(fā)現(xiàn)第一部分案例描述中原權(quán)利要求的缺陷，在滿足專利法第33條的前提下，可以在上述兩個主動修改的時機(jī)添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求，即上述修改是被允許的。
專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款規(guī)定的發(fā)明的申請文件的被動修改，指的是對申請文件針對審查意見通知書中所指出的缺陷進(jìn)行修改。按照專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定，即使添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求符合專利法第33條的規(guī)定，若審查意見通知書中并沒有指出第一部分案例描述中原權(quán)利要求的缺陷，該添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案也是不被允許的，不符合專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定。
這樣規(guī)定的原因是什么呢？專利審查指南2010版第二部分第八章5.2.1.3中明確說明了“當(dāng)出現(xiàn)下列情況時，即使修改的內(nèi)容沒有超出原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍（即修改的內(nèi)容符合專利法第33條的規(guī)定），也不能被視為是針對通知書指出的缺陷進(jìn)行的修改，因而不予接受”。其中，下列情況包括：
?。?）主動刪除獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征，擴(kuò)大了該權(quán)利要求請求保護(hù)的范圍；
（2）主動改變獨(dú)立權(quán)利要求中的技術(shù)特征，導(dǎo)致擴(kuò)大了請求保護(hù)的范圍；
?。?）主動將僅在說明書中記載的與原來要求保護(hù)的主體缺乏單一性的技術(shù)內(nèi)容作為修改后權(quán)利要求的主題；
（4）主動增加新的獨(dú)立權(quán)利要求，該獨(dú)立權(quán)利要求限定的技術(shù)方案在原權(quán)利要求書中未出現(xiàn)過；
?。?）主動增加新的從屬權(quán)利要求，該從屬權(quán)利要求限定的技術(shù)方案在原權(quán)利要求書中未出現(xiàn)過。
上述5種情況，前4種情況都與獨(dú)立權(quán)利要求有關(guān)，可以看出，專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定主要是針對審查過程中擴(kuò)大獨(dú)立權(quán)利要求的保護(hù)范圍或者新增獨(dú)立權(quán)利要求的情況。但是，在主動修改時，就沒有排除上述5種情況。也就是說，在專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款所規(guī)定的主動修改時機(jī)時，可以允許申請人進(jìn)行上述5種情況的修改。審查員會對修改后的申請文件依法進(jìn)行審查。而超過了國務(wù)院專利行政部門發(fā)出的發(fā)明申請進(jìn)入實(shí)質(zhì)審查階段通知之日起的3個月后，申請人進(jìn)行上述5種情況的修改，會產(chǎn)生影響正常審查程序的問題，為了避免上述問題，不允許申請人進(jìn)行上述5種情況的修改。
由上述分析可知，本文第一部分案件描述中的修改方式，即為上述所列的5種情況中的第4種。若審查意見通知書中指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷，在符合專利法第33條規(guī)定的前提下，添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案是被允許的。若審查意見通知書沒有指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷，即使符合專利法第33條規(guī)定，添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案也是不被允許的。
若審查意見通知書沒有指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷，申請人若想克服該缺陷該如何處理呢？第一種處理方式：若原申請文件中對技術(shù)方案C有明確的文字記載，申請人可以將技術(shù)方案C分案申請，或者申請一個在后申請，保護(hù)技術(shù)方案C，要求第一部分案件描述中發(fā)明的優(yōu)先權(quán)。第二種處理方式：若原申請文件對技術(shù)方案C沒有明確的文字記載，而原申請文件中所記載的技術(shù)方案A和技術(shù)方案B可以直接地、毫無疑義地確定技術(shù)方案C時，則可以申請一個在后申請，保護(hù)技術(shù)方案C，要求第一部分案件描述中發(fā)明的優(yōu)先權(quán)。第三種處理方式：將原申請文件中的從屬權(quán)利要求2修改為一個與權(quán)利要求1并列的獨(dú)立權(quán)利要求。可以理解的是，第三種處理方式無法保護(hù)上位的技術(shù)方案C，保護(hù)范圍較小，可以在添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案不符合專利法第33條的規(guī)定時使用。
在實(shí)務(wù)操作中，當(dāng)添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案滿足專利法第33條規(guī)定時，若審查意見通知書沒有指出本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷，申請人可以與審查員溝通該添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案，審查員會依據(jù)是否影響審查程序的角度做出是否允許該修改的結(jié)論。
并且，還需要注意的是，在審查過程中，當(dāng)添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求的修改方案滿足專利法第33條規(guī)定時，申請人對申請文件按照上述修改方案進(jìn)行了修改，即使不符合專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定，但是，只要該申請被授權(quán)，在無效程序中，該保護(hù)技術(shù)方案C的新的獨(dú)立權(quán)利要求也是有效的。
四、結(jié)論
針對本文第一部分案件描述中權(quán)利要求的缺陷，所采用的修改方案為添加技術(shù)方案C作為新的獨(dú)立權(quán)利要求。首先，該修改方案要滿足專利法第33條的規(guī)定。其次，該修改方案符合專利法第33條規(guī)定的前提下，一方面可以在專利法實(shí)施細(xì)則第51條第1款規(guī)定的兩個主動修改的時機(jī)進(jìn)行主動修改，另一方面也可以在滿足專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定的情況下進(jìn)行被動修改。當(dāng)該修改方案符合專利法第33條規(guī)定，但是不符合專利法實(shí)施細(xì)則第51條第3款的規(guī)定時，可以采用分案或者要求優(yōu)先權(quán)的方式獲得一個保護(hù)技術(shù)方案C的新申請。
以上為筆者的個人觀點(diǎn)，若有不妥之處，還請讀者批評指正。
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